تعداد ۱ پاسخ غیر تکراری از ۱ پاسخ تکراری در مدت زمان ۰,۳۴ ثانیه یافت شد.

1. Chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polymers and organosilicate glasses : fundamental mechanisms and application to IC interconnect technology

پدیدآورنده : by Christopher L. Borst, William N. Gill, Ronald J. Gutmann

کتابخانه: کتابخانه پردیس بین الملل كیش دانشگاه تهران (هرمزگان)

موضوع : Interconnects (Integrated circuit technology),Semiconductors -- Polishing,Grinding and polishing,Chemical mechanical planarization

این پایگاه با مشارکت موسسه علمی - فرهنگی دارالحدیث و مرکز تحقیقات کامپیوتری علوم اسلامی (نور) اداره می شود
مسئولیت صحت اطلاعات بر عهده کتابخانه ها و حقوق معنوی اطلاعات نیز متعلق به آنها است